La presenza di una camera bianca e di sistemi di nanolitografia, sia di tipo ad ultravioletti (UV-LITHO), che a fascio elettronico (EBL), che di tipo nanoimprint (NIL), o basate su scansione di sonda (SPM), permettono al personale del NEST di ottenere risultati che sono allo stato dell’arte nel campo della nanofabbricazione, sia in termini di risoluzione finale ottenibile che di flessibilità di progettazione.
Anche in questo caso il NEST può impiegare la sua esperienza nel settore per fornire indicazioni indispensabili alla scelta di tecnologie abilitanti per l’impresa o per formare il suo personale specializzato.
La presenza di attrezzature per la caratterizzazione ed analisi ottica, la deposizione di metalli per evaporazione termica, elettronica o sputtering, la deposizione di dielettrici sottili mediante tecnica Atomic Layer Deposition (ALD), l’attacco chimico a umido e a secco anche in plasma (RIE ed ICP-RIE) completano l’offerta del Centro per l’analisi e la realizzazione di dispositivi avanzati, la sintesi di nanomateriali quali film sottili, nanofili e nanoparticelle di metalli, semiconduttore, materiali piezoelettrici, ferromagnetici, e di materiali a base di carbonio come il grafene.